Компания ASML, мировой лидер в производстве фотолитографического оборудования, представила технологию для EUV-литографии, которая позволит увеличить производительность машин до 330 кремниевых пластин в час к 2030 году, по сравнению с нынешними 220. Ключевым улучшением стал рост мощности источника EUV до 1000 Вт, что более чем на 50% превышает показатели предыдущей модели (NXE:3800E). Для достижения этой мощности потребовалось удвоить подачу капель олова до 100 000 в секунду и использовать две последовательности лазерных импульсов. ASML также рассматривает возможность увеличения мощности до 1500 Вт и не исключает достижения 2000 Вт в будущем. Это позволит существенно снизить стоимость производства передовых процессоров.

3DNews: ASML совершила технологический рывок, который радикально увеличит эффективность и удешевит выпуск современных чипов.
IXBT.com | Новости: Новая технология ASML позволит значительно повысить производительность машин для производства чипов к концу десятилетия.